通訳翻訳メモ


by hirobek

中国専利 化学

亜鉛(Zn) 锌

アクリル酸 丙烯酸

アセトン 丙酮

アルゴンガス 氩气

アンモニア蒸留     蒸氨 

アンモニア蒸留缶    蒸氨罐

イオンプレーティング 离子电镀

イリジウム(Ir) 铱 yī

インジウム(In) 铟


ウルツ鉱 纤锌矿

エキシマレーザー 准分子激光

エチルアルコール 乙醇

オスミウム(Os) 锇 é




CVD 【Chemical Vapor Deposition】(化学気相成長法) 气相沉积

煆焼(かしょう) 焼成

ガリウム(Ga) 镓

希土類元素 稀土元素

強誘電性液晶 铁电液晶

原子価 化合价

好適な 优选的

高表面積 High surface area 高比表面

コバルト(Co) 钴

蒸着          蒸镀

前駆体    前体

不純物        杂质

純炭酸カルシウム   纯碳酸钙

可塑剤 增塑剂

ガドリニウム(Gd) 钆 gá

カリウム(K) 钾

間欠(の).断続的な 间歇


かん水   卤水

キャビティ(cavity) 空腔

凝縮(する); 冷凝

クロム(Cr) 铬

ゲルマニウム(Ge) 锗 zhě

原子数比 原子数比计

コバルト(Co) 钴

サポナイト 皂石


サマリウム(Sm) 钐 shān/shàn

三次元  3D     三维

ジスプロシウム(Dy) 镝 dī/dí

重量百分率       质量百分数    

重量部 重量份

熟成 熟化 陈化

臭化セチルトリメチルアンモニウム 十六烷基三甲基溴化铵

シリコンウエハー 硅片

ジルコニウム(Zr) 锆

スカンジウム(Sc) 钪


スパッタリング(sputtering) 溅射
スパッタリングターゲット 溅射靶

セリウム(Ce) 铈 shì

組成物 组合物

ターゲット       靶    

脱イオン水 去离子水

タングステン 钨

弾性強化添加剤 增加弹性的添加剂 增弹剂


炭酸カリウム 碳酸钾

タンタル(Ta) 钽

窒素ガス 氮气

チタン.チタニウム(Ti) 钛

定電圧         恒压        

テレフタル酸ポリエチレン 聚对苯二甲酸乙二酯

添加量         加入量

電気抵抗 电阻


電融マグネシウムパウダー  电熔镁粉    

ナノテクノロジー 納米技术

ナノメーター 納米

ニオビウム(Nb) 铌

ニッケル(Ni) 镍

ネオジム(Nd) 钕 nǚ

熱伝対 热偶

マグネシウム塩 镁盐


マッフル炉 马沸炉


マンガン(Mn) 锰

モリブデン(Mo) 钼

ハフニウム(Hf) 铪

バナジウム(V) 钒

パラジウム(Pd) 钯

パラフィン.石蝋 石蜡

ビスコファイト 水氯镁石

プラチナ(Pt) 铂 bó

不純物混入MgO結晶体蒸発源 掺杂MgO晶体作为蒸发源

ペリクレース (Periclase) 方镁石

ベルジャー 钟罩


方向性              取向   

ポバール.ポリビニルアルコール 聚乙烯醇

ポリエチレン(polyethylene;PE 聚乙烯


ポリカーボネイト 聚碳酸酯

マンガン(Mn) 锰

蜜蝋 蜂蜡

モリブデン(Mo) 钼

焼もどし         退火   

ユーロピウム(Eu) 铕 yǒu

誘電体 电介质

リグニン 木素

ルテニウム 钌

ロジウム(Rh) 铑

レニウム(Re) 铼 lái
[PR]
by hirobek | 2010-08-14 08:51 | Patent